R20比R21更容易崩溃，猜测是与阿诺德的衔接不完美，然后内核本身也有问题。
阿诺德在打开IPR时，鼠标中键开启阿诺德着色器，有固定的概率会导致软件崩溃。
渲染前的准备时间不会计入渲染时间。
阿诺德的所有灯光可玩性均没有物理渲染器对应的灯光高。
对于部分插件的克隆，需要开启多重实例才能正常的使用高低模功能。
表面克隆并不能根据模型角度来安置，贴合有很严重的问题。
如果把一张图用到有关法线、凹凸节点时，阿诺德会把该图像自动变成line格式解析，且只能手动指定SRGB才能杜绝问题。
R19,R20,R21是三个内核不同的版本，如果文件在3个软件之间来回使用时，C4D会不断的提示你版本问题。
天灯提高采样会导致渲染时间成倍增长，但质量却未必变好。
阿诺德物理天空的太阳参数并无卵用。
在使用多重克隆时，R20已经支持数万个模型而不卡视窗，比R19强了很多。
阿诺德的置换没有物理渲染器的简单好用。
R21的界面比R20的更人性化。
OBJ格式只有模型，FBX模型导入C4D还可以有分层，贴图材质等信息，FBX文件比OBJ小5-10倍，比C4D文件小三倍。
模型太多时，C4D会极其吃内存，但使用多重克隆则不会。
阿诺德在IPR很多模型的场景时，内存占用会急剧飙升，似乎没有明确上限，且反应缓慢，每次暂停再开启都要UPDATE SENCE。
大的贴图是导致卡顿的主要原因。
在渲染时，阿诺德并不会因为场景的模型多就平白无故多出渲染时间，一样很快。
在阿诺德中，法线贴图并不能很好的产生凹凸效果，高度贴图才是正解。
