得到大学听书«光刻巨人»

这期音频为你解读的是《光刻巨人》,这是全球光刻机巨头阿斯麦(ASML)公司的企业传记。


光刻机,是近两年热议的话题,很多人都在说,光刻机是中国被“卡脖子”的关键技术之一。这种神秘的机器,被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,它是用来制造芯片的核心设备。一台最先进的极紫外(EUV)光刻机,市场售价高达1.2亿欧元,和一架波音737客机的价格差不多。有人开玩笑说,光刻机哪里是在刻芯片,简直就是在印钞票。而且,这么贵的东西,还不是你想买就能买。


极紫外光刻机目前全球只有一家公司能生产,这就是今天要说的主角,荷兰的阿斯麦公司。2019年,阿斯麦公司的极紫外光刻机产量只有20多台,英特尔、三星、台积电等芯片生产巨头都在等着供货。中芯国际曾经在2017年下血本向阿斯麦订购了一台极紫外光刻机,但由于美国的阻挠,这台机器至今没有到货。目前,我国花在进口芯片上的钱超过了进口石油,芯片成为消耗外汇储备最多的项目。如果美国全面断供芯片,而我们又买不到最先进的光刻机,那么我们将面临没有高端芯片可用的风险。


听到这儿,我猜你心里已经打出了无数个问号:光刻机到底有啥高科技,能卖这么贵?芯片产业向来是美、日、韩三国主导的地盘,为什么垄断全球高端光刻机市场的,竟然是一家名不见经传的荷兰公司?中国的国产光刻机发展得怎么样了,有没有可能追赶上来?别着急,这期音频,我会把这些问题都给你讲清楚。


我们回过头来说说《光刻巨人》这本书。这是阿斯麦公司的最新传记,详细讲述了阿斯麦公司在早期,也就是从1984年创立到1996年上市这段时间的创业故事。作者是一名荷兰的科技记者,叫瑞尼·雷吉梅克。巧的是,雷吉梅克就出生在阿斯麦公司所在的小镇上。雷吉梅克花7年时间,采访了阿斯麦的创始人和后来的多位CEO,还访谈了几十位核心员工,获得了大量第一手素材。这本书的英文版在2019年上市,是目前关于阿斯麦公司的权威传记。


接下来,我就分三个部分来讲述。第一部分,我想为你简要说明光刻机是咋回事,造一台高端光刻机为什么这么难;第二部分,我们来看看,阿斯麦怎样从一家不断亏损的初创企业,成长为和日本尼康、佳能并列的市场三巨头,这也是本书的主要内容;第三部分,我要为你补充,在1996年之后,阿斯麦怎样甩开这两个竞争对手,成为极紫外光刻机市场的唯一玩家的。


第一部分

好,我们先来讲第一点:高端光刻机为什么那么难造?


有人这样形容光刻机:“这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。”听起来是不是特别懵?


别害怕,其实,光刻机的工作原理一点都不复杂。你可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机,它负责把“底片”,也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”上。这个“底片”有一个专业名称,叫做“掩膜”,掩盖的掩,保鲜膜的膜。而这里的“相片纸”,就是制造芯片的基底材料硅晶圆;曝光完成后得到的最终“照片”,就是芯片。


光刻机的基本结构也并不复杂,最关键的部件只有三个:光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头,以及放置硅晶圆的曝光台。你看,是不是一说你就明白了?


正是因为光刻机的工作原理和基本结构并不复杂,所以,在芯片行业发展的早期,并没有专门的光刻机生产商。芯片公司只需要到照相器材商店购买普通的相片洗印设备,然后自己加工改造一下就可以了。


那么,光刻机是从什么时候变得复杂起来的呢?这就要说到芯片行业著名的“摩尔定律”。摩尔定律是指,每隔两年,同样大小的一块芯片上,晶体管数量会增加一倍。换句话说,芯片的性能也增加一倍。要注意的是,摩尔定律并不是客观的自然规律,而是芯片行业在激烈竞争中形成的经验规律:一旦芯片公司的研发速度落后于这个节奏,就将被无情淘汰。摩尔定律自从1965年提出后,统治了芯片行业长达半个世纪。


半个世纪以来,芯片上的晶体管数量一直在呈指数级增长。如果还把芯片比喻为“照片”的话,那么,这个照片的像素是呈指数级增长的。相应地,用来曝光洗印“照片”的光刻机的精度,也必须越来越高,否则,你设计的“照片”再精美,印不出来,也是白搭。


以目前华为的麒麟7纳米芯片为例,生产这样的芯片,要用前面说到的最先进的极紫外光刻机。它的精度要达到什么样的程度呢?


首先,如果把光想象成一把刻刀的话,那么光波越短,这把刻刀就越锋利。我们知道,1纳米等于百万分之一毫米,7纳米芯片意味着,它的每个元器件之间,只允许有几纳米的间隔距离,相当于一根头发丝粗细的万分之一。


要曝光这样的芯片,必须采用一种特殊的光源,也就是极紫外光,它的波长只有13.5纳米,是可见光波长的几十分之一。但是,极紫外光源很难制造。有大概20年的时间,光刻机所使用的光都是波长为193纳米的深紫外光,一直无法突破。直到2015年,阿斯麦才研制出了第一台极紫外光刻机。到今天,也只有阿斯麦一家公司能够生产极紫外光刻机。这就是光刻机的第一个技术难点,光源。


光刻机的第二个技术难点,是用来调整光路和聚焦的光学镜头。高度精密的光学镜头是光刻机的核心部件之一,所以你发现没有,排在阿斯麦之后的另外两家光刻机生产商,尼康和佳能,都是生产光学镜头的佼佼者。阿斯麦自己不生产镜头,它的镜头来自德国的光学大师卡尔蔡司。这种镜头有多精密呢?如果把镜头放大到一个地球那么大,它上面只允许有一根头发丝那样的凸起。所以有人说,这可能是宇宙中最光滑的人造物体。


说到这儿,你有没有想起在科幻小说《三体》里,三体人用来攻击地球的“水滴”,其实就是他们制造的一种表面绝对光滑的物体。按小说里的定义,能不能制造出这么精细的东西,就是衡量一个宇宙文明高度的标志。


然而,能制造出这样的光学镜头还不够。光刻机的第三个技术难点,是对准。芯片不是一次曝光就可以完成的,而是必须更换不同的掩膜,进行多次曝光。就好像用单色印刷机印彩色图纸,要用四种不同的颜色,在同一张纸上印刷四遍。在这个过程中,如果下一道印刷没有完全对准上一道的图案,就会出现重影,图像就废了。


光刻机也是这个道理。别忘了前面说的,芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。这就意味着,掩膜和硅晶圆每次对准的误差,也必须控制在纳米级别。更何况,一个硅晶圆有生日蛋糕那么大,而每次曝光的区域只有一块橡皮擦那么大。曝光完一个区域之后,放置硅晶圆的曝光台必须快速移动,接着曝光下一个区域。要在快速移动中实现纳米级的对准,这个难度就相当于,你要从眨眼之间,端着一盘菜从北京天安门冲到上海外滩,恰好踩到预定的脚印上,菜还保持端平不能洒。


听到这儿,你是不是也觉得,天啊,实在是太难了。其实,除了光源、镜头、对准这三大核心技术难题,还有一系列外围的技术难题,比如,比室外空气干净1万倍的超洁净厂房,防止机器抖动的磁悬浮装置,以及配套的计算光刻软件,等等。现在我们明白,为什么光刻机被称为“半导体工业皇冠上的明珠”。制造一台极紫外光刻机,就是在挑战人类工业文明的极限。


第二部分

好,我们对光刻机有了一个大致的了解,接下来,我们来说说光刻机垄断巨头阿斯麦公司是如何崛起的。


在阿斯麦公司成立的1984年,光刻机市场已经是群雄并起,有十来家生产商,市场份额较大的有美国的著名仪器制造商珀金埃尔默公司和GCA公司,以及日本的尼康和佳能。阿斯麦公司在成立后的两年内,市场份额为零,因为他们还没有生产出任何一款产品推向市场。阿斯麦的首届CEO贾特·斯密特声称,四年之内,阿斯麦定会杀入光刻机市场的前三强。


你肯定觉得奇怪,一家名不见经传的小公司,在巨头林立的光刻机市场,哪来这样的底气呢?这是因为阿斯麦并不是草根出身,而是系出名门,它的技术和创业团队来自大名鼎鼎的飞利浦公司。早在1960年代,飞利浦的物理实验室就开始研发光刻机,而且,有好几项技术都比市面上的光刻机要先进。


但是,飞利浦作为一家巨无霸公司,同时研发的新产品可以说不计其数,那个年代的光刻机也不算一种特别高科技的产品,飞利浦高层完全没有意识到这个机器的重要性。有件小事很能说明这一点。


飞利浦的物理实验室每年都会举办一个研究成果展,有一年,光刻机团队获得了一个机会,在大会上展出他们的光刻机原型。这台机器成功吸引了大家的注意,一名公司董事也过来参观学习。光刻机团队正在眉飞色舞地给董事介绍机器性能,结果董事突然走开了,原来他被隔壁展台的新型洗衣机吸引过去了。在董事看来,与光刻机这种专业小众设备相比,能够批量出货上万台的新型洗衣机当然更具赚钱能力。


公司董事是这种态度,光刻机在飞利浦的命运就可想而知了,真是姥姥不疼、舅舅不爱。而偏偏光刻机又是一个需要持续投入、大量烧钱的项目,每年至少需要投入1000万美元进行研发,简直就是个无底洞。到1980年代初,飞利浦实在受不了了,决定把这个包袱甩出去,能卖掉就卖掉,卖不掉的话找人来合资也行,好歹分担点成本。


飞利浦先后洽谈了三家美国公司,都吃了闭门羹,美国人并不觉得飞利浦的技术有多牛。只有荷兰本地的一家叫ASM的小公司积极回应。眼看着实在没人接盘,飞利浦最终同意,与ASM合资成立光刻机公司,双方各占一半股份。阿斯麦的名字就来自于ASM公司。1984年4月1日愚人节这天,投资资金到账,首任CEO贾特·斯密特走马上任。


刚刚接手新公司没几天,斯密特就后悔了。他发现自己掉进了一个大坑里。首先,这家公司穷得要命。飞利浦和ASM各自注资210万美元,其中飞利浦的注资还是拿过时的样机和库存材料来折价的。阿斯麦公司现金不足300万美元,这和每年至少1000万美元的研发预算相比,简直都不够塞牙缝的。公司甚至都没有一个像样的办公地点,飞利浦在自己的豪华办公大楼前面,搭了一排简易活动板房供他们办公。


第二,比没钱更要命的是,公司员工的士气非常低落。阿斯麦最初的47名员工,都来自飞利浦的光刻机团队,他们认为自己是被飞利浦一脚踢了出来,扫地出门。每个人都灰心丧气、不停地抱怨,这样一帮人,你怎么指挥他们打仗?


第三,从技术上看,阿斯麦确实从飞利浦那儿获得了一些领先的技术,比如高精度的对准技术,但是,从实验室技术到商业量产,还有很长的一段路要走。很有可能,产品还没推向市场,钱就烧光了。


想想看,假如你是斯密特,该怎么办?


斯密特做的第一步,就是重振员工士气,这是扭转局势的开始。什么东西可以让一支暮气沉沉的队伍变得斗志昂扬?不是钱,而是赢的希望。在公司成立后的第一次员工大会上,斯密特信心满满地宣布,四年之内,阿斯麦可以从一家市场份额为零的公司,跻身光刻机市场的前三名。当然,牛可以随便吹,关键是,你怎么让员工真的相信?


斯密特对竞争形势做了认真分析。当时市面上包括阿斯麦在内,有10家光刻机生产商,但其中有5家根本没有啥核心技术,属于陪跑的行列,真正值得认真对待的对手也就四家,就是前面提到的美国的珀金埃尔默和GCA,以及日本的尼康和佳能。


斯密特告诉员工,虽然这四家公司的产品都很成熟,但是它们都没有充分重视摩尔定律的威力。两年之后,主流芯片将升级换代,从大规模集成电路变成超大规模集成电路,硅晶圆尺寸要从4英寸变成6英寸。这意味着,现有的光刻机会被淘汰,市场将会重新洗牌。四巨头中还没有一家研制出了新一代光刻机,阿斯麦是和它们站在同一条起跑线上,谁率先研发出新一代光刻机,谁就赢了。更何况,阿斯麦拥有一张技术王牌——高精度的对准系统。这是开发下一代光刻机的关键技术,其他四巨头都还没有,这等于是阿斯麦抢跑了,赢面很大。


斯密特这一番话,听得员工一个个热血沸腾,准备撸起袖子大干一场。员工动员起来了,接下来,斯密特得完成第二项艰巨任务,就是找钱。斯密特估计,要想在光刻机市场站稳脚跟,需要筹集1亿美元的研发费用。但是,飞利浦把光刻机项目剥离出来,就是不想再往里面投钱,ASM的实力又不够,斯密特费劲口舌好说歹说,才让两家股东各增资了150万美元,简直是杯水车薪。


事实上,阿斯麦从成立到上市的十多年间,一直处于现金流极度紧张的状况,斯密特和后来几任CEO的首要任务,都是找钱。当时,欧共体和荷兰政府的经济事务部,都对本地高科技企业有补贴和贷款支持,阿斯麦的人天天去游说政府给他们拨款,有段时间简直就要在政府大楼门前安营扎寨了。阿斯麦好几次资金断流,都是靠荷兰政府紧急输血来续的命。


还有,飞利浦不想给钱,给阿斯麦做担保总可以吧,靠着飞利浦的担保,阿斯麦从银行贷到了2500万美元。阿斯麦又设法找到资产租赁公司,以在建的机器设备为抵押,贷了一笔款。总之,通过各种东挪西凑,研发费用勉强到位。当然,后来飞利浦终于发现了光刻机的重要性,也对阿斯麦下了血本,前后投资超过1亿美元。


钱的问题解决了,斯密特又开始发愁光刻机的量产问题。斯密特清醒地认识到,关键的瓶颈其实不在阿斯麦本身,而在于生产光学镜头的供应商。日本的尼康和佳能自己就是顶级的光学镜头厂商,阿斯麦想要和它们竞争,必须绑定一个高水平的供应商。斯密特认定,唯一的选择是德国的顶级镜头厂商卡尔蔡司。


斯密特派人去蔡司谈合作,看看能不能为他们独家定制镜头,谁知道,蔡司那边的负责人一口拒绝,拿出几个库存镜头告诉他们,爱买不买。原来,除了阿斯麦,美国的几家光刻机公司也在寻求和蔡司合作,蔡司的镜头是好女不愁嫁,当然不可能为阿斯麦独家定制了。


更麻烦的是,就算蔡司愿意合作,它的产量也跟不上。蔡司的精密镜头是手动抛光完成的,需要依赖具有多年经验的顶级工匠,这样的工匠被称为“金手指”。6名“金手指”一年只能磨制出10套满足新一代光刻机要求的镜头,蔡司就算跑遍全球也找不到足够的“金手指”。


在后来很长一段时间里,蔡司和阿斯麦的合作都是半心半意,镜头成了阿斯麦“卡脖子”的环节。一直到1990年代初,蔡司陷入财务危机,而阿斯麦的母公司飞利浦慷慨相助,前后借给蔡司将近4000万美元,帮助它摆脱困境,两家公司这才越走越近。后来,蔡司又在飞利浦的帮助下,开发出了闭环抛光机器人生产线,也就是用机器人来打磨抛光镜片,这就摆脱了对“金手指”的依赖,为光刻机的量产铺平了道路。


就这样,初创的阿斯麦攻克了一道道难关,终于在1991年交付了一台划时代的产品,型号为PAS 5500。这款机器一上市就迅速占领市场,阿斯麦终于扭转多年亏损的局面,实现了持续盈利。


同时,一场意外的行业萧条,直接让阿斯麦的两位美国对手出局了。


说来也巧,就在阿斯麦刚成立的三年中,全球的芯片行业经历了一次衰退,需求暴跌。日本公司通过财团之间的抱团取暖,躲过一劫。阿斯麦在那几年还在潜心搞研发,反正没有产品卖,也不受市场萧条的影响。但是美国公司就倒霉了。以GCA公司为例。在前些年的市场繁荣期,GCA大干快上,同时上马了50多个研发项目,结果萧条期一来,资金链马上断掉,公司一蹶不振。美国公司一倒,蔡司的光刻镜头就只能卖给阿斯麦,正好缓解了镜头产能不足的压力,真是如有神助。


到1996年阿斯麦上市的时候,光刻机市场只剩三个玩家:老大尼康、老二佳能,阿斯麦排第三。这本书正文的最后一句话是,阿斯麦员工穿的T恤上写着:我们将打败日本人。


第三部分

显然,到这儿,阿斯麦的故事还没有讲完。在接下来的第三部分,我通过网上查找的资料,特别是本书译者金捷幡写的文章《光刻机之战》,为你简要介绍阿斯麦是怎么打败尼康和佳能的。阿斯麦之所以能成为行业老大,离不开两个“贵人”的支持。一个是台积电,一个是英特尔。


先来说台积电。台积电之所以能和阿斯麦搭上线,是因为台积电和阿斯麦一样,一开始都是飞利浦的合资企业。因为这样的关系,台积电成为阿斯麦最早的客户之一,和阿斯麦有比较多的合作。


1990年代,光刻机的光源被卡在了193纳米的深紫外光,想要进一步制造波长更短的光,实在是太难了。这时候,尼康打算用一种叫F2的激光作为光源。但是,这种光很容易被吸收,原来的镜头、光刻胶等配套材料都不能用,必须全部重新研发。而且,F2激光的波长是157纳米,只比193纳米的深紫外光短了不到25%。也就是说,F2激光的研发投入产出比太低。


与此同时,台积电有一名叫林本坚的工程师想出了一个怪招:只要在曝光的硅晶圆上方加1毫米厚的水,通过水的折射,就可以把193纳米的深紫外光变成134纳米的光。这比F2激光的157纳米更短,而且对原来的机器不用做太大的改动,属于低投入高产出。林本坚这个想法一出来,阿斯麦积极响应,和台积电一起研制出了叫做“浸入式”的新一代光刻机,很快抢占了市场。当然,台积电也凭借率先用浸入式光刻机来量产芯片,崛起为业界巨头,这是一个双赢的格局。


而另一边,等尼康反应过来,也开始研发浸入式光刻机,技术上已经比阿斯麦落后了一两年。光刻机市场就是这么残酷,只要一次技术换代没跟上,就会被拉下马来。


这是第一个贵人台积电,帮助阿斯麦弯道超车尼康。不过,第二个贵人英特尔更厉害,它让阿斯麦一骑绝尘,把尼康和佳能甩出了十条街。1990年代,就在尼康想出F2方案、林本坚想出浸入式方案的时候,芯片界的老大英特尔也在想办法:这么小打小闹、修修补补下去不行啊,想要在未来十年保持摩尔定律有效,必须把光刻机的波长缩小一个数量级才行。这种光就是一开始我们提到的极紫外光,它的波长只有13.5纳米,是深紫外光的1/15。


当然,要制造出这种光源的光刻机,已经不是哪家公司凭一己之力就可以完成的,必须举当时全美国最先进的科技力量,共同研发。1997年,英特尔和美国能源部牵头,成立了一个研究组织叫做“极紫外联盟”(EUV LLC),成员包括当时还如日中天的摩托罗拉、AMD,以及美国三大国家实验室;总投资两亿美元,集合几百位顶级科学家,从理论上验证极紫外技术的可行性。


从1997~2003年的6年之内,极紫外联盟的科学家发表了几百篇论文,扫清了极紫外技术的理论难题,只需要光刻机厂商把技术落地了。问题是,美国举全国之力研发出来的这么宝贵的技术,交给谁呢?美国的光刻机厂商已经被团灭了,剩下的玩家只有阿斯麦、尼康、佳能三巨头。1980年代日本人在存储芯片领域把美国人打得落花流水,美国人至今恨得牙痒痒,把技术转让给日本人断断不行。这样一来,唯一的选择就只有阿斯麦了。


当然,美国人对这家荷兰公司也不是特别放心,让它做出了一堆承诺,几乎把阿斯麦变成了半个美国公司。目前阿斯麦的前三大股东都是美国公司,而飞利浦几乎没有阿斯麦的股份了。这也是为什么中芯国际想买阿斯麦的极紫外光刻机,而美国人不让卖就没法卖,因为技术是人家的。


有了美国人的技术转让,再加上阿斯麦高达每年10亿欧元的研发投入,阿斯麦终于在2015年实现了极紫外光刻机的量产。而曾经的日本双雄尼康和佳能,直接放弃了极紫外光刻机的研发,退出比赛,只在中低端市场还有一点残余的份额。


结语

从阿斯麦王者崛起的故事中我们可以看到,光刻机技术其实已经超越了企业之间的竞争,它需要从国家战略层面,在资金上、技术上集中力量、集体攻坚。那么,在这场竞争中,中国的国产光刻机处于什么位置,还没有赶超的可能?


其实,我国的光刻机技术起步并不晚,早在1977年就研制出了第一台国产光刻机,和当时世界最先进水平的差距并不大。但是后来,由于信奉“造不如买”,我国的光刻机研发陷入了停滞,直到21世纪初才又重新开始启动。


目前,中国最牛的光刻机生产商是上海微电子(SMEE),它的光刻机可以生产90纳米制程的芯片。虽然这离最先进的7纳米甚至5纳米芯片还差很远,但90纳米芯片也能够满足国防和工业的计算需求,即使真的断供,我们最多是没有最新款的手机可用,不至于国家彻底停摆。而且,5G技术的应用,也可以在一定程度上缓解芯片能力的不足。这就好比,我们没有能力造出豪华跑车,但可以把高速公路修得更好,整体车速跑起来也不会太慢。


最新消息称,上海微电子将在2021~2022年交付新一代浸入式光刻机,可以生产28纳米制程的芯片。28纳米芯片已经可以满足物联网技术需求。而且,用28纳米光刻机进行多次重复曝光,可以生产7纳米芯片,只不过速度慢一些。目前,中科院表示要带头攻坚光刻机项目,国家也对光刻机研发进行了专项拨款。中国的光刻机研发,路漫漫而修远兮,但只要坚持投入、不下牌桌,就会有赢的机会。


撰稿、讲述:徐玲

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